DACrux / DMS 특징

Maintenance
Device Definition별로 정보 Define 극소화
User Security로 정보에 대한 접근 Control
User별 Setup Option으로 분석방법의 다각화 실현
Data Loss의 최소화
추가 장비에 대한 쉬운 확장
데이터 수집의 자동화에 따른 정보의 정확성 제공

Analysis
영상 분석(Visual Analysis)의 제공으로 정확한 현상 파악
Defect Data 및 Image Data의 체계적 분석 방법 제공
Defect 관리 및 분석
수율을 저하시키는 주요 Defect들의 수치적 관리
Defect분석으로 인한 Yield Modeling

Reporting
Defect의 실시간 모니터링
Repeat Defect에 대한 즉각적인 경보
Critical Defect에 대한 빠른 프로세스 피드백
의사결정의 지표가 되는 분석 Reporting

DACrux / DMS 제안처

DACrux/DMS는 고도의 정밀도를 요하는 반도체 Wafer 및 FPD(LCD,PDP,OLED) 와 이제품의 설계 Mask등의 제품을 생산 하는 사업체에 적합합니다.

DACrux / DMS 기대효과

Defect Data의 표준화 및 체계적인 관리
실시간 Monitoring에 의한 이상발생에 대한 즉각적인 조치 가능
효과적인 Defect Management 및 이상 수율에 대한 개선 방안 제시
수율 향상에 필요한 분석 작업 및 장비의 Utilization을 정확히 파악
Defect Data 분석절차 간소화 및 양질의 Report 제공으로 조기 Process 안정화
관련 Data (Process, EDS Test, Memory Test, Equipment)와 연계 분석이 가능
수율 예측 및 Yield Modeling이 가능
Systematic Yield Loss 및 Random Defect Yield Loss 산출 가능
별도의 컴포넌트나 인터페이스 툴이 필요 없이 소프트웨어적으로 장비 확장 가능